1. 最⼤样品尺⼨:15 mm × 15 mm × 10 mm(⻓宽⾼)。
2. 可检测区域:位于样品中⼼位置10 mm之内。
3. 样品表⾯粗糙度:RMS < 50 nm。
4. 制备基底:⾦基底、红外透光基⽚(如:ZnS、ZnSe、BaF )、云⺟⽚、硅⽚、玻璃⽚。
5. 样品厚度对基底的要求:> 100 nm可使⽤普通基底,<100 nm应使⽤⾦基底或红外透光基⽚。