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聚焦离子束-场发射扫描电子显微镜FIB 德国蔡司
设备型号:Cross beam 540
厂       家:德国蔡司
所属地区:上海
  • 技术参数:

    聚焦离子束:分辨率:3 nm @30kV ;可用离子束流:1 pA–100 nA ;加速电压:0.5-30 kV。场发射扫描电镜:分辨率:0.9 nm @15 kV; 1.8 nm @1 kV;加速电压:0.02-30 kV; 放大倍数:12X-2,000,000X配置5个探测器 :  √ 镜筒内置二次电子探测器(InLens)  √ 镜筒内置能量选择背散射电子探测器(EsB)  √ Everhart-Thornley样品室二次电子探测器(SE)  √ 4Q-BSD 背散射电子探测器  √ 能谱仪(EDS)五支气体注入系统:XeF2,Pt,C,Si, H2OAvizo三维分析软件:含孔喉模型

    功能特色:

    1、高分辨二次电子/背散射电子图像 2、 元素组成与含量( EDS)分析3、透射电镜样品制备 4、纳米加工(沉积、刻蚀)5、三维重构成像 6、三维空间材料组成及分布 7、三维孔隙分布、连通性、孔径及孔隙度

    样品要求:

    1、无腐蚀性、无爆炸性、无剧毒性的粉体和块体2、块体样品高度必须低于1cm,长宽小于2cm,表面必须平整3、树脂包埋样品需使用导电树脂

    应用领域:

    服务范围:

    收费标准:

    面议

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