制备腔（Preparation Chamber） 真空度/Vacuum：室温下 < 3×10-10 mbar 样品温度/Temperature：直流加热：1500 K, 辐射加热：~1400K，液氮/液氦：~80K/20K 氩离子溅射源/Ion Sputtering Source 动能范围：0.2-3keV，最大离子电流：20μA 有机蒸发源/Organic Material Evaporator 加热温度范围：25 ~ 800 ℃ STM腔（STM Chamber ） 真空度/Vacuum：室温下 < 3×10-10mbar 温度/Temperature：液氮~77K，液氦~4K 低温扫描隧道显微镜（LT-STM） 分辨率/Resolution：横向<0.01nm; 纵向<0.001nm， 最小隧道电流< 1 pA 原子力显微镜（Qplus-AFM） 频率分辨率/Frequency: < 100 mHz 传感器最小控制振幅/amplitude < 30 pm

工作模式有STM和Qplus-AFM两种，可以达到亚原子级的分辨率，可对样品进行扫描成像、谱学、原子/分子操纵等功能； STM腔可在液氮和液氦温度下工作，与制备腔相互独立，配备气动支架减震隔离系统，设备稳定性好； 制备腔配置氩离子溅射源和样品加热台，可以实现清洁衬底、蒸镀样品及加热控温等功能； 单/三口有机蒸发源与超高真空设备兼容，配备10cc（单口）和3×0.5cc（三口）石英坩埚，配直流电源和PID控制器，可控制升温降温速率。

低温超高真空条件下表面原子结构、电子结构表征，局域电子态分布、电子隧道谱等；配置有机蒸发源，可实现超高真空下热蒸发、样品溅射等。

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