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FIB聚焦离子束 赛默飞
设备型号:FEI,Helios G4 CX
厂       家:赛默飞
所属地区:北京
  • 技术参数:

    电子束核心指标:分辨率1.1最佳工作距离分辨率:1.0nm @ 1kV1.2束交叉点分辨率:0.6nm @ 15kV; 2.5nm@1kV

    功能特色:

    .集成电路线路修改;2. 透射样品切割,包括硅基、纳米颗粒、陶瓷颗粒等

    样品要求:

    应用领域:

    服务范围:

    收费标准:

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